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X射线荧光镀层测厚仪

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X射线荧光镀层测厚仪​

​​FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-μ PCB
用途 能量色散型X射线荧光镀层测厚及材料分析仪(EDXRF)，用于测量印制线路板上的超薄镀层及复杂镀层结构
测量方向 从上往下
应用 基于多毛细管光学系统的特点，是微观结构上Au 和 Pd 镀层测厚的最佳选择。
X射线源 X射线源 标准：带铍窗口的钨靶微聚焦射线管Ultra
可选：带铍窗口的钼靶微聚焦射线管
高压 三档：10 kV，30 kV，50 kV
初级滤波器 多种可切换：Ni 10 μm；空气；Al 1000 μm；Al 500 μm
X射线光学系统 多毛细管
多毛细管/探测器 标准型17 μm 17 μm halo-free* 10 μm
测量点(Mo-Kα的半高宽) ≤ ∅17 μm ≤ ∅17 μm ≤ ∅10 μm
X射线探测器 帕尔帖冷却硅漂移探测器(SDD)，搭载最新 DPP+ 数字脉冲处理器
元素范围 从铝 Al (13) 到铀 U (92) – 最多可同时测量 24 种元素
测量距离
(测样表面至测量头下边缘)		 固定，约 4 – 5 mm 固定，约 4 – 5 mm 固定，约 1.5 – 2 mm
可用样品放置区域最 宽 × 深：600 × 600 mm
大移动范围 450 × 300 mm
X/Y平台最大移动速度 60 mm/s
X/Y平台移动重复精度 单向 ≤ 5 μm
样品最大重量 / 高度 5 kg / 10 mm

用途 能量色散型X射线荧光镀层测厚及材料分析仪(EDXRF)，用于测量印制线路板上的超薄镀层及复杂镀层结构
测量方向 从上往下
应用 基于多毛细管光学系统的特点，是微观结构上Au 和 Pd 镀层测厚的最佳选择。
X射线源 X射线源 标准：带铍窗口的钨靶微聚焦射线管Ultra
可选：带铍窗口的钼靶微聚焦射线管
高压 三档：10 kV，30 kV，50 kV
初级滤波器 多种可切换：Ni 10 μm；空气；Al 1000 μm；Al 500 μm
X射线光学系统 多毛细管
多毛细管/探测器 标准型17 μm 17 μm halo-free* 10 μm
测量点(Mo-Kα的半高宽) ≤ ∅17 μm ≤ ∅17 μm ≤ ∅10 μm
X射线探测器 帕尔帖冷却硅漂移探测器(SDD)，搭载最新 DPP+ 数字脉冲处理器
元素范围 从铝 Al (13) 到铀 U (92) – 最多可同时测量 24 种元素
测量距离
(测样表面至测量头下边缘)		 固定，约 4 – 5 mm 固定，约 4 – 5 mm 固定，约 1.5 – 2 mm
可用样品放置区域最 宽 × 深：600 × 600 mm
大移动范围 450 × 300 mm
X/Y平台最大移动速度 60 mm/s
X/Y平台移动重复精度 单向 ≤ 5 μm
样品最大重量 / 高度 5 kg / 10 mm
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用途 能量色散型X射线荧光镀层测厚及材料分析仪(EDXRF)，用于测量印制线路板上的超薄镀层及复杂镀层结构
测量方向 从上往下
应用 基于多毛细管光学系统的特点，是微观结构上Au 和 Pd 镀层测厚的最佳选择。
X射线源 X射线源 标准：带铍窗口的钨靶微聚焦射线管Ultra
可选：带铍窗口的钼靶微聚焦射线管
高压 三档：10 kV，30 kV，50 kV
初级滤波器 多种可切换：Ni 10 μm；空气；Al 1000 μm；Al 500 μm
X射线光学系统 多毛细管
多毛细管/探测器 标准型17 μm 17 μm halo-free* 10 μm
测量点(Mo-Kα的半高宽) ≤ ∅17 μm ≤ ∅17 μm ≤ ∅10 μm
X射线探测器 帕尔帖冷却硅漂移探测器(SDD)，搭载最新 DPP+ 数字脉冲处理器
元素范围 从铝 Al (13) 到铀 U (92) – 最多可同时测量 24 种元素
测量距离
(测样表面至测量头下边缘)		 固定，约 4 – 5 mm 固定，约 4 – 5 mm 固定，约 1.5 – 2 mm
可用样品放置区域最 宽 × 深：600 × 600 mm
大移动范围 450 × 300 mm
X/Y平台最大移动速度 60 mm/s
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样品最大重量 / 高度 5 kg / 10 mm
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