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离子研磨机
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高质量全自动扫描电镜样品制样工具


◼ 离子束平台应用于扫描电镜样品制备 

➢ 快速的剖面切削 

➢ 表面细抛 

◼ SEMPrep2 系列: 

➢ 100ev 到16kev 高低能量离子枪可选择 

➢ 全球独家16kev超高能量离子枪做超快速切削应用 

➢ 数码式参数设定和自动操作 

➢ 通过Peltier制冷或液氮制冷保护样本受超负荷过热的影响 

➢ 可选择多种样品台适合各种大小的样品


SEMPrep2标准版

​1. ☆加速电压:离子枪加速电压从2-16 keV连续可调。 

2. 离子束直径:300~600 um (FWHM)连续可调。 

3. 最大离子束电流密度:100mA/cm2。 

4. 电流大小:离子束电流150 uA。 

5. ☆最大抛削速度:对于c-Si标准样品在16keV, 30°入射角时具备有580um/h 的样品减薄能力。 

6. ☆平面样品搭载尺寸:至少可容纳33.5 x 9 mm样品。

 7. ☆截面样品搭载尺寸:使用90度专用截面切削样品载台,至少可容纳20 x 16 x 7 mm ( L x W x Thickness)样品。 

8. 样品倾斜角度:0°至30°,每0.1°连续可调。 

9. 样品旋转角度调节:360˚ 可变速样品旋转,角度速度连续可调。 

10. ☆样品加工摆角(振荡):±10°至±120°,每5°连续可调。 

11. ☆操作系统:内置工业级PC并搭载预装Windows操作系統,操作方便简洁。 

12. 工作模式:智能式计算器控制并可根据客户需求切换不同用户模式:手动操作模式, 半自动操作模式以及 全自动智能操作模式,

并可储存操作参数用于之后调出使用。 

13. 真空抽气装置:移动式涡轮分子泵和无油多级隔膜泵,以达到无油式真空抽气系统避免样品遭油气污染。 

14. 真空测试:潘宁规。 

15. 光学放大:可配备分离式或整合式的观测样品光学显微镜,放大倍率需50~300倍或更高。


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真空锁(样品缓冲室) 便于快速更换样品

样品冷却:可选配液氮制冷 或者电制冷 什么也不加的情 况下,TL也标配 独家的热导制冷技术哦!

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